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MTX-201全光亮鍍鋅添加劑
一、前言
  MTX-201全光亮低氰鍍鋅光亮劑是我公司在消化吸收國外新一代高新光亮劑技術的基礎上獨立研究開發的新產品,其性能指標在國內同類產品中處于一流水平。
二、工藝特點
  1、光亮電流密度范圍很寬,可使用范圍在0.5~4A。
  2、低電流走位好,覆蓋能力強、有極其出色的分散能力和均鍍能力、鍍層均勻。深凹部分光澤良好,特別適合復雜零件鍍覆,具有類似鍍鉻的光澤。
  3、整平性能佳,鍍層光亮、均勻、致密,與基體結合力好,并有良好的韌性,可直接進行低鉻或三價鉻鈍化。
  4、沉積速度快、節電、省工、省時、降低成本。
  5、鍍液穩定,添加劑消耗少,抗雜質性能強,易于操作維護,光亮劑消耗量每千安時為200毫升。
  6、適用于掛鍍和滾鍍。
三、配方和工藝條件
成分及物理參數 低 氰 中 氰 滾 鍍
氧化鋅(ZnO) 8~12 12~16 10~15
氰化鈉 9~16 20~35 20~35
氫氧化鈉(NaOH) 80~100 70~80 75~85
酒石酸鉀鈉 2~3 2~3 2~3
MTX-201 4~5 4~6 4~6
溫度 5~40℃
陰陽極面積比 1:1.5~1:2
陽極 99.99%純鋅
掛鍍:陰極電流密度 0.5~4A/dm2
陰極移動 8~12次/分鐘
鍍:陰極電流密度 0.5~3A/dm2
滾桶轉速 6~8次/分鐘

四、鍍液配制

  1、將計算量的苛性鈉用待配槽液體積1/4的水溶解于渡槽中,再加入適量氰化鈉,使之完全溶解;
  2、將計算量的氧化鋅用水調成液狀,在不斷攪拌下緩慢加入渡槽,使之完全溶解,再加入酒石酸鉀鈉;
  3、加水至所需體積,充分攪拌均勻取樣分析并調整工藝規范;
  4、所配其它的原材料如都符合要求,加光亮劑則可進行試鍍,如鍍層不理想,就要加0.5~1.5克/升鋅粉 充分攪拌1小時,靜止1~2小時過濾。
五、溶液維護

  1、正常的使用“三定”維護法,即定期分析、定期加料、定期處理;
  2、控制氰化鈉與鋅的比例,氰化鈉高,鋅低;
  3、光亮劑應少加、勤加;
  4、槽液每隔1~2月應用0.5~1.5克/升的鋅粉或堿性鍍鋅除雜劑1~2克/升凈化處理一次。
六、雜質處理
  1、處理金屬雜質:
   a.可用陰極電流密度0.1~0.3A/dm2,通電處理,以除去重金屬離子,銅雜質最好采用通電處理;
   b.在通風良好的條件下,加入1~2克/升鋅粉,充分攪拌1小時,靜止1~2小時后過濾。
  2、處理有機雜質: 在通風良好的條件下,加入1~2克/升活性炭,充分攪拌1~2小時后過濾。
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