防沉劑,6900-20X,觸變劑,甲基二磺酸鈉,硬鉻添加劑,硬鉻中間體
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以液體形式直接使用:

1、在電鍍硬鉻工藝中直接添加甲基二磺酸的優點

1)陰極電流效率高,可達23-26%

2)沉積速度快,是一般普通電鍍鉻的2-3倍。

3)無陰極低電流區腐蝕。

4)鍍層平滑,結晶細致光亮。

5)高鍍層硬度,可達HV900-1150

6)微裂紋可達400-800/厘米。

7)鍍層厚度均勻,無高電流區沉積過厚。

8)可使用高電流密度,可達90安培/平方分米。

9)鍍液維護簡單,操作容易。

10)無陽極腐蝕,不需采用特殊陽極(建議使用含錫量7%-10%鉛錫合金)

2、鍍液配方和操作工藝

1)清洗鍍槽。

2)注入去離子水。

3)加入所需量的鉻酐220-250g/L

4)甲基二磺酸添加量,按每升鍍液添加10g,用溫水稀釋入槽。

項目 最佳 范圍
鉻酐(CrO 250g/L 220270g/L
硫酸(H2SO4 2.7g/L 2.53g/L
三價鉻(Cr3+ 2.5g/L 25g/L
甲基二磺酸(50%)(開缸) 10g/L 8-12g/L
陰極電流密度 60A/dm2 3090A/ dm2
溫度 57 5565
陰陽極面積比 1213
甲基二磺酸(50%)(補加) 每補加1公斤鉻酐同時補加16

5)加入去離子水、調節至規定液面

6)硫酸濃度2.5-3.0g/L

7)加熱至55-60

8)適當電解產生三價鉻

9)加入適宜的鉻霧抑制劑

10)試鍍

3、槽液補加

日常補加按每添加50公斤鉻酐同時添加0.8公斤甲基二磺酸。 

我們只生產鍍鉻中間體,不生產鍍鉻添加劑!所有數據,包括配方均是真實的。我們相信其準確性,但不保證其準確性。我們強烈建議客戶在自己的試驗室或設備上進行試驗來確認! 

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